化學(xué)領(lǐng)域答復(fù)OA過程中補充數(shù)據(jù)的認可程度問題

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來源：IPRdaily中文網(wǎng)（IPRdaily.cn）

作者：李佳  北京超凡志成知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙）

原標題：淺談關(guān)于化學(xué)領(lǐng)域答復(fù)OA過程中補充數(shù)據(jù)的認可程度問題

摘要： 在化學(xué)領(lǐng)域中，通過補充實驗數(shù)據(jù)的方式來進行答復(fù)OA的做法是比較常見的，筆者根據(jù)實際的工作經(jīng)驗，通過案例介紹的方式對在撰寫以及后續(xù)答復(fù)OA過程中所遇到的問題進行了總結(jié)，并對個人的經(jīng)驗進行分享，希望能為大家在答復(fù)OA以及撰寫申請文件時提供一些更為開闊的思路，幫助大家對相關(guān)涉及的法條有進一步的理解。

關(guān)鍵詞： 化學(xué)領(lǐng)域 OA答復(fù) 補充數(shù)據(jù)的認可

一、前言

化學(xué)領(lǐng)域的案件多屬于實驗科學(xué)的范疇，所以其非常注重實施例的設(shè)計、布局，并且往往需要利用檢測手段、實驗數(shù)據(jù)等多方面來證明方案所帶來的效果。那么既然實驗數(shù)據(jù)屬于化學(xué)領(lǐng)域中驗證發(fā)明效果的重要途徑，其在進行撰寫時如何設(shè)計實驗以及后續(xù)答復(fù)OA時補充數(shù)據(jù)的限度問題都是非常值得探討的，下面通過案例介紹的方式來闡明筆者對于實驗數(shù)據(jù)設(shè)計以及補充方面的觀點。

二、案例介紹

發(fā)明名稱：一種熔石英光學(xué)元件表面的處理方法

申請?zhí)枺?01803230188525.0

該申請公開的權(quán)利要求書獨立權(quán)利要求是這樣記載的：一種熔石英光學(xué)元件表面的處理方法，其特征在于，（A）對熔石英光學(xué)元件的表面進行反應(yīng)離子刻蝕處理后，去離子水漂洗；（B）再采用HF-NH4F緩釋溶液對熔石英光學(xué)元件的表面進行刻蝕處理，去離子水漂洗，即可。

2018年03月28日下發(fā)了第一次審查意見，指出其與對比文件1（“反應(yīng)等離子體修飾熔石英光學(xué)元件表面研究”，王峰等，光學(xué)學(xué)報，31卷5期）在處理方法上均是將反應(yīng)離子刻蝕與酸刻蝕進行結(jié)合的方法，大同小異。

2016年4月18日，申請人對第一次審查意見進行了陳述，并將原權(quán)1的反應(yīng)離子刻蝕的具體操作參數(shù)“射頻功率控制在100-300W之間，射頻偏壓控制在800-900V之間，刻蝕深度控制在1.5-4.5μm/h之間”補充到了原權(quán)1中，同時將去離子水漂洗等中間處理步驟的方案補充到了原權(quán)1中，陳述的觀點主要是對比文件1所采用的反應(yīng)離子刻蝕的激發(fā)源、刻蝕氣體與本發(fā)明的激發(fā)源、刻蝕氣體并不同，從而導(dǎo)致整個反應(yīng)離子刻蝕的操作過程、操作原理也是不同的，尤其在刻蝕方法如此不同的情況下，本發(fā)明刻蝕的效果要顯著優(yōu)于對比文件1的方法，尤其粗糙度可以保證低于1nm，但是對比文件1的粗糙度反而會增大。對于上述陳述的觀點審查員沒有認可，所以又下發(fā)了第二次審查意見。

2016年7月24日審查員下達第二次審查意見通知書，依然對本發(fā)明的創(chuàng)造性不予認可，主要觀點在于對比文件1同樣給予了反應(yīng)等離子刻蝕后樣品表面可以更加光滑、平整的啟示，那么本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)實際需要對離子刻蝕的方法進行調(diào)整，為此申請人與審查員進行了電話溝通，對于本發(fā)明的方案與所產(chǎn)生的積極效果與審查員交換了意見，審查員鑒于本發(fā)明效果上的優(yōu)越性，同意通過補充實驗數(shù)據(jù)的方式來證明采用本發(fā)明的處理方法處理后的光學(xué)元件較對比文件1的光學(xué)元件其性能上的優(yōu)異性。

代理人通過與發(fā)明人進行溝通后，由發(fā)明人進行了具體的試驗操作，按照對比文件1的方案與本發(fā)明的方案分別對光學(xué)元件進行了試驗處理后，并對表面的粗糙度以及損傷閾值進行了測試比較，最后發(fā)現(xiàn)對比文件1處理后的元件表面粗糙度Rq由1.12 nm增加到1.53 nm，與對比文件1中的圖4、圖5和圖6的結(jié)果基本吻合，本發(fā)明處理后的光學(xué)元件表面的表面粗糙度Rq為0.64 nm，也未見明顯劃痕，更加說明了本發(fā)明該復(fù)合刻蝕工藝具備無痕去除元件表面缺陷的能力。

在上述案件的審理過程中，審查員雖然同意了采用補充實驗過程的方式來證明本發(fā)明的方案所能帶來的效果，但是具體補充數(shù)據(jù)的方式其實是值得進一步探討的，由于該案件與對比文件1在光學(xué)元件的處理方法以及處理后的性能參數(shù)都非常類似，而且都清楚的記載了處理過程，以達到了本領(lǐng)域技術(shù)人員可以直接依照申請文件中所記載的方法進行實踐的程度，所以這也就給采用補充實驗數(shù)據(jù)的方式來證明效果提供了可能性，而且在性能驗證方面，兩個方案均采用的是粗糙度、損傷閾值這兩個參數(shù)進行性能表征，正好表征參數(shù)上也比較吻合，這樣可以將對比文件1與本發(fā)明在效果上進行更為直接的對比，此外從對比文件1和本發(fā)明所記載的數(shù)據(jù)中，可以非常清楚的反應(yīng)出本發(fā)明的粗糙度的數(shù)據(jù)更為優(yōu)異。

所以，上述情況均為后續(xù)補充實驗數(shù)據(jù)提供了一定的依據(jù)，因為假設(shè)本發(fā)明對于具體的粗糙度以及損傷閾值方面的數(shù)據(jù)絲毫沒有記載的情況下，那么依據(jù)本發(fā)明的方案處理后的光學(xué)元件的粗糙度，發(fā)明人想通過補充實驗數(shù)據(jù)的方式是否可行呢？筆者認為是超出了原申請文件的記載范圍的，尤其在與對比文件1的方案比較類似的情況下，在沒有具體數(shù)據(jù)記載的情況下如何證明其光學(xué)元件的粗糙度一定優(yōu)于對比文件1呢，所以如果本發(fā)明中只是記載了斷言式的效果，比如粗糙度低，但是具體的限度沒有具體量化的情況下，可能答復(fù)OA時依靠后續(xù)補充實驗數(shù)據(jù)的做法是很難行得通的，還是需要原申請文件中有具體的數(shù)值量化的實驗例，這樣在后續(xù)答復(fù)審查意見的過程中，一旦想通過補充實驗數(shù)據(jù)的方式來說服審查員，也更加行的通，而且也更加有理論支撐，審查員更容易信服。

其實，根據(jù)答復(fù)審查意見中補充實驗數(shù)據(jù)的情況對申請文件在撰寫時如何設(shè)計實驗例是有一定的指導(dǎo)意義的，也對撰寫申請文件時實驗方法設(shè)計以及實驗數(shù)據(jù)的記載方式提出了更高的要求，是可以進行進一步的探討的。

三、經(jīng)驗總結(jié)

首先，在設(shè)計實驗例時應(yīng)盡量避免采用主觀、斷言式的試驗驗證方式，因為這種實驗例在實際代理案件過程中發(fā)現(xiàn)其驗證效果的力度是非常薄弱的，不僅其效果本身審查員在主觀的可信度上會降低很多，也不利于試驗過程的重復(fù)性，因為人與人之間的主觀感受度的差別對試驗結(jié)果的影響非常大，這就導(dǎo)致試驗結(jié)果的準確性、反復(fù)重復(fù)性上都會受到比較大的影響。

其次，在設(shè)計實驗時盡量給出所采用的材料、試劑的來源，所采用的儀器的型號，實驗方法如果參照國標的方法可以直接給標準號，如果是自行設(shè)計的方法請給予詳細的試驗步驟，以便于后續(xù)本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠依照文本中公開的內(nèi)容準確實施其整個試驗過程，此外后續(xù)的試驗數(shù)據(jù)處理方面，最好發(fā)明人可以提供數(shù)據(jù)的顯著性差異的分析過程，以增加數(shù)據(jù)的可信度，這樣設(shè)計出的試驗由于完全采用客觀的方法，并給出了可信的試驗數(shù)據(jù)，其準確性、重復(fù)性都得到了保證，尤其是如果后續(xù)在答復(fù)審查意見時一旦需要采用補充數(shù)據(jù)的方式來證明本發(fā)明的效果時，可以直接按照本發(fā)明的試驗方法進行實施，不會存在重復(fù)不出來遭到審查員質(zhì)疑的問題產(chǎn)生。

筆者通過日常實踐，發(fā)現(xiàn)最常見的補充實驗數(shù)據(jù)的方式就是將對比文件的產(chǎn)品采用本發(fā)明實驗的方法進行測試，與本發(fā)明的產(chǎn)品測試后的數(shù)據(jù)進行對比，這樣直接的對比是最為有利的效果證據(jù)，所以實驗過程的完整公開充分性是后續(xù)補充實驗數(shù)據(jù)的基礎(chǔ)，應(yīng)當盡量的保證客觀完整，以使本領(lǐng)域技術(shù)人員可以直接實施的程度。

總之，以上列舉的案例以及論述的一些觀點能為大家在答復(fù)OA以及撰寫申請文件時提供一些更為開闊的思路，幫助大家對相關(guān)涉及的法條有進一步的理解。由于筆者水平有限，以上觀點難免有不當之處，希望能與大家進一步交流探討。

來源：IPRdaily中文網(wǎng)（IPRdaily.cn）

作者：李佳  北京超凡志成知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙）

編輯：IPRdaily趙珍          校對：IPRdaily縱橫君

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