索賠9272萬元！電磁屏蔽膜行業(yè)掀起專利大戰(zhàn)！（判決書全文）

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原標(biāo)題：9272萬元專利侵權(quán)案！電磁屏蔽膜行業(yè)掀起專利大戰(zhàn)?。ǜ剑号袥Q書）

近日，國內(nèi)知名電磁屏蔽膜產(chǎn)品制造商廣州方邦電子股份有限公司被電磁屏蔽膜行業(yè)全球市場規(guī)模最大的日本企業(yè)大自達(dá)電線股份有限公司起訴專利權(quán)侵權(quán)案二審在廣東高級人民法院審理結(jié)束。廣東高級人民法院最終判決維持一審原判，駁回大自達(dá)公司的全部訴訟請求。據(jù)了解，由于涉案雙方均是業(yè)界知名企業(yè)，且該案索賠額達(dá)9272萬元，數(shù)額巨大，該案自立案起就受到廣泛關(guān)注,因為該案的典型意義及影響,此案一審也被收錄為2017廣州法院知識產(chǎn)權(quán)十大典型案例之一。

一、案情簡介

大自達(dá)電線股份有限公司（以下簡稱大自達(dá)公司）和廣州方邦電子股份有限公司（以下簡稱方邦公司）均是電磁屏蔽膜行業(yè)全球市場規(guī)模排名前三的企業(yè)。

2017年1月6日，因認(rèn)為廣州方邦電子股份有限公司（下稱方邦公司）生產(chǎn)銷售的屏蔽膜產(chǎn)品侵犯其200880101719.7號發(fā)明專利,方邦電子的競爭對手大自達(dá)電線股份有限公司在廣州知識產(chǎn)權(quán)法院起訴方邦電子專利侵權(quán)。

大自達(dá)公司是涉案“印刷布線板用屏蔽膜以及印刷布線板”發(fā)明專利的權(quán)利人。大自達(dá)公司認(rèn)為方邦公司制造、銷售的8款屏蔽膜產(chǎn)品侵害其涉案發(fā)明專利權(quán)，據(jù)此起訴請求判令方邦公司承擔(dān)停止侵權(quán)、賠償經(jīng)濟(jì)損失9200萬元、合理維權(quán)支出72萬元等民事責(zé)任。

廣州知識產(chǎn)權(quán)法院經(jīng)過證據(jù)保全、傳喚鑒定人、開庭審理、咨詢技術(shù)調(diào)查官等合法程序，平等對待國內(nèi)外當(dāng)事人，依法保護(hù)雙方在訴訟中的權(quán)利，公正審慎地進(jìn)行審理。經(jīng)審理后于2017年7月21日作出一審判決，認(rèn)定被訴侵權(quán)產(chǎn)品未落入涉案專利的權(quán)利要求保護(hù)范圍，方邦公司不構(gòu)成侵權(quán)，駁回原告大自達(dá)公司的全部訴訟請求，并由大自達(dá)公司負(fù)擔(dān)案件受理費(fèi)50.54萬元。

大自達(dá)公司不服，向廣東省高級人民法院提起上訴。

2018年3月26日，廣東高院就該案作出二審判決，駁回大自達(dá)公司上訴，維持一審原判。

二、案件關(guān)鍵點(diǎn)梳理

雙方當(dāng)事人除了對被訴侵權(quán)產(chǎn)品所涉第一金屬層是否以波紋結(jié)構(gòu)的方式形成這一技術(shù)特征存在爭議外，對于被訴侵權(quán)產(chǎn)品具有其他被訴技術(shù)特征并無異議。

因此如何解釋該特征并進(jìn)而明確涉案專利權(quán)的邊界是本案的關(guān)鍵點(diǎn)。

經(jīng)查明，涉案發(fā)明專利申請時在提交了原始申請文件后對權(quán)利要求進(jìn)行了修改，將涉案爭議特征從“第一金屬層以沿著所述絕緣層的單面表面成為波紋結(jié)構(gòu)的方式形成”修改為“第一金屬層的兩面沿著所述絕緣層的單面表面形成”。國家知識產(chǎn)權(quán)局對此發(fā)出審查意見通知書，指出原申請文件僅記載了波紋結(jié)構(gòu)的第一金屬層和大致平坦結(jié)構(gòu)的第一金屬層兩種實(shí)施例，沒有給出第一金屬層以其它方式（比如鋸齒形或連續(xù)的凹凸形）的形成結(jié)構(gòu)等內(nèi)容，認(rèn)為申請人的修改超出了原說明書和權(quán)利要求書記載的范圍；同時要求申請人再次修改時應(yīng)對通知書中提出的所有問題逐一詳細(xì)地作出說明。

于是，申請人將涉案爭議特征再次修改成“所述第一金屬層以沿著所述絕緣層的所述單面表面成為波紋結(jié)構(gòu)的方式形成”；并稱通過上述修改，權(quán)利要求記載技術(shù)方案與原說明書記載的內(nèi)容一致。之后，涉案專利申請獲得授權(quán)。

一審法院認(rèn)為，在涉案專利申請文件審查過程中，國家知識產(chǎn)權(quán)局專門指出申請人修改后的涉案爭議特征除了第一金屬層以波紋結(jié)構(gòu)的方式形成外還包含了第一金屬層以其它方式（比如鋸齒形或連續(xù)的凹凸形）的形成結(jié)構(gòu)，該部分修改超出了原申請文件記載范圍。

基于此，若申請人不接受上述審查意見，應(yīng)當(dāng)逐一詳細(xì)作出相應(yīng)的解釋和說明；但申請人同意審查意見并對權(quán)利要求再次修改，對審查意見未作任何反駁。

因此，根據(jù)上述涉案專利審查的過程及內(nèi)容，結(jié)合涉案專利說明書、附圖以及工具書、教科書等公知文獻(xiàn)，法院認(rèn)定涉案專利爭議特征第一金屬層的波紋結(jié)構(gòu)應(yīng)解釋為不應(yīng)當(dāng)包括隨機(jī)變化的、無規(guī)律高低起伏的連續(xù)凹凸形結(jié)構(gòu)。

而方邦公司制造、銷售的屏蔽膜產(chǎn)品的第一金屬層的結(jié)構(gòu)是隨機(jī)變化的、無規(guī)律高低起伏的連續(xù)凹凸形結(jié)構(gòu)，因此不落入涉案發(fā)明專利權(quán)的保護(hù)范圍。

三、案件啟示

我國經(jīng)濟(jì)已經(jīng)由高速增長階段轉(zhuǎn)向高質(zhì)量發(fā)展階段，其中重點(diǎn)之一就是要在高科技的關(guān)鍵領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)核心技術(shù)的自主創(chuàng)新和突破。中國的高科技企業(yè)在彎道超車的過程中必然會遭遇國際跨國巨頭的阻擊。因此,中國的高科技企業(yè)除了在自主創(chuàng)新上要加大投入外,如何應(yīng)對國際跨國巨頭的打壓也是非常重要的課題。

本案訴訟的結(jié)果回答了在電磁屏蔽膜行業(yè)全球市場規(guī)模排名靠前的中國企業(yè)制造、銷售的產(chǎn)品中使用的核心技術(shù)是屬于我國企業(yè)自主創(chuàng)新還是侵害日本企業(yè)發(fā)明專利權(quán)的問題,該案結(jié)果將給全球相關(guān)行業(yè)格局帶來深遠(yuǎn)影響。更重要的是,該案將給中國的高科技企業(yè)如何應(yīng)對國際跨國巨頭提起的專利訴訟提供非常有益的借鑒和參考。

就本案來說,法院在審理中對于發(fā)明專利權(quán)利要求的爭議技術(shù)特征進(jìn)行解釋時，除了運(yùn)用說明書、附圖及其他相關(guān)權(quán)利要求以外，還結(jié)合專利審查檔案進(jìn)行解釋。

通過審查專利審查檔案的內(nèi)容，可以明確申請人在專利申請過程中對于專利權(quán)保護(hù)范圍所作的真實(shí)意思表示與客觀行為，確定國家知識產(chǎn)權(quán)局與申請人在劃定專利權(quán)邊界上達(dá)成了何種一致的意見，并對社會公眾形成了何種公示作用，從而使法院認(rèn)定的專利權(quán)保護(hù)范圍符合專利權(quán)產(chǎn)生時所公示的邊界，符合國家授予、保護(hù)這種專有性、壟斷性權(quán)利的初衷，如此才能為社會公眾提供明確的法律預(yù)期，避免不當(dāng)壓縮社會公眾對于公有技術(shù)自由運(yùn)用的空間。

與此相對應(yīng)的，在申請發(fā)明專利的過程中，申請人如不接受相關(guān)審查意見，應(yīng)當(dāng)詳細(xì)地做出相應(yīng)說明回應(yīng)，或者在進(jìn)一步修改時清晰、合理地對相關(guān)技術(shù)特征進(jìn)行限定或解釋；在接受相關(guān)審查意見獲得專利授權(quán)后，權(quán)利人卻在侵權(quán)訴訟中主張與申請時所同意的審查意見相左的意見，顯然有違誠實(shí)信用原則，不應(yīng)得到法院的支持。

附：判決書全文

來源：IPRdaily中文網(wǎng)（IPRdaily.cn）

編輯：IPRdaily趙珍          校對：IPRdaily縱橫君

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